製品紹介
Hf・Zr材料
四塩化ハフニウム（Hfcl4）
四塩化ハフニウム（Hfcl4）
康楽の強み
康楽では、四塩化ハフニウム（HfCl₄）の安定供給を支える独自の体制と、グローバルにも希少な設備・ネットワークを活かし、高品質な製品を提供しています。
1. 安定した原料供給体制
当社供給元企業は自社でZr鉱石を保有しており、四塩化ハフニウム製造に必要な原料を安定的かつ継続的に供給することが可能です。
2. 世界的に希少な昇華分離設備
供給元は、世界でも限られた企業しか保有していない昇華分離設備を有しており、ZrやFeなどの金属不純物を極限まで低減できます。これにより、電子材料・原子力発電用途などの高純度要求に対応可能な製品を製造できます。
3. 原子力発電用途にも対応した供給実績
4. 主な用途
- 半導体材料の前駆体：HfO₂薄膜形成用原料として、ALD・CVDプロセスで使用。
- 精密鋳造・合金材料：ジルコニウム合金・高融点合金の添加材（航空宇宙分野など）。
- 触媒原料：有機合成・石油化学プロセスにおけるルイス酸触媒の前駆体。
5. 取扱い上の注意点
- 吸湿性・加水分解性：空気中の水分と反応しHClを発生 → 乾燥・不活性雰囲気下（Ar, N₂）での操作が必須。
- 腐食性・有毒性：皮膚・眼への重篤な損傷リスク → 保護具（ゴーグル・手袋・マスク）の着用必須。
- 保管方法：密閉容器で冷暗所・乾燥環境に保存、開封後は速やかに使用。
- GHS分類（例）：
- H314：皮膚腐食性／重篤な眼損傷
- H290：金属腐食性
- P280：保護具着用推奨
- P261：吸入回避
吸湿性・加水分解性が非常に高い
空気中の水分と速やかに反応して塩化水素（HCl）を放出するため、取り扱いは**乾燥・不活性雰囲気下（例：アルゴン、窒素）**で行う必要があります。
腐食性・有毒性
皮膚や眼への接触で重篤な損傷を引き起こす恐れがあり、取り扱い時は保護メガネ・手袋・マスクなどの着用が必須です。
保管方法
密閉容器に入れ、冷暗所・乾燥環境にて保管してください。開封後はできるだけ早めに使い切ることが望ましいです。
GHS分類（例）：
H314：皮膚腐食性／重篤な眼の損傷
H290：金属腐食性
P280：保護具の着用推奨
P261：吸入を避けること
7. 加工・包装まで一貫対応
Zr金属は原子力発電用途において安定供給が求められますが、その副生成物として得られるHf（約2%）についても、同様に安定供給可能な体制を整えています。特に高信頼性が求められる分野においても、継続的に製品を提供し続けることができるのが当社の強みです。
まずはお問合せください。
四塩化ジルコニウム（Zrcl4）
1. 製品概要
2. 主な用途
- 有機合成における保護基導入や脱保護反応に使用
- 触媒合成や機能性材料の前駆体として利用
- 無水環境下での高効率な反応をサポート
3. 物理・化学的性質
- 外観：白色〜淡黄色の結晶または粉末
- 化学式：ZrCl₄
- 分子量：約233.04
- 融点：約437 °C（昇華性あり）
- 溶解性：有機溶媒に可溶、水とは急速に反応
4. 安全性・保管方法
- 水分や湿気を避け、密閉容器で乾燥環境にて保管してください
- 取り扱い時は手袋、保護メガネ、防護服など適切な保護具を着用してください
- 吸入や皮膚・眼への直接接触を避けてください
5. 加工・包装まで一貫対応
康楽は、特に高信頼性が求められる分野においても、継続的に製品を提供し続けることができるのが当社の強みです。
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酸化ハフニウム（HfO2）
1. 製品概要
2. 主な用途
- 半導体素子のゲート絶縁膜材料（High-k材料）
- メモリデバイス（強誘電メモリ等）の構成材料
- 光学コーティングや耐熱用途での使用
- 核融合関連・高温構造材料の分野でも研究が進む
3. 物理・化学的性質
- 外観：白色の粉末
- 化学式：HfO₂
- 融点：約2758 °C
- 誘電率：二酸化ケイ素に比べて大幅に高い（約20～25）
- 結晶構造：用途によりアモルファスまたは多結晶形態
4. 安全性・保管方法
- 通常の粉体取扱い基準に従い、粉塵吸入を防ぐため換気設備のある場所で作業してください
- 保護メガネや手袋の着用を推奨
- 室温・乾燥状態で保管
5. 加工・包装まで一貫対応
康楽は、特に高信頼性が求められる分野においても、継続的に製品を提供し続けることができるのが当社の強みです。