製品紹介
半導体ガス
（72GeF₄・各種希ガス）
72GeF₄
（ゲルマニウム四フッ化物）
半導体・光学産業に求められる高純度特殊ガス
1. 製品概要
72GeF₄は、同位体精製されたゲルマニウム（72Ge）から生成された四フッ化物ガスです。
半導体微細加工や光学機器製造において、高純度・低不純物が要求される工程に使用されています。
2. 特徴
- 高純度仕様（用途に応じたグレード選択可）
- 低不純物設計でプロセスの安定性向上
- 精密な薄膜形成・光学結晶製造に最適
- 国内外サプライチェーンを活用した安定供給体制
3. 主な用途
- 半導体エッチングプロセス（先端微細加工対応）
- 光学コーティング・結晶材料の製造
- 同位体利用を活用した研究・実験用途
4. サポート体制
- ロットごとの成分分析・純度証明書（Certificate of Analysis）発行対応
- 導入前の技術コンサルティング・用途別提案
- 長期・安定供給への対応
その他
各種希ガス製品
半導体・医療・研究用途に対応する高純度希ガスソリューション
1. 製品概要
希ガスは、安定性の高い単体元素として、プラズマ生成・光源・分析装置・医療用途に広く使用されています。
【取扱製品例】ネオン（Ne）、アルゴン（Ar）、クリプトン（Kr）キセノン（Xe）
2. 特徴
- 用途別に各種純度グレード（標準品～超高純度仕様）をラインアップ
- 容器サイズ・供給形態の柔軟な対応
- 厳格な品質管理とサプライチェーン追跡対応
- 研究機関・半導体工場向けの安定供給体制
主な用途
- 半導体製造プロセスのプラズマ発生用キャリアガス
- レーザー発振・UV・可視光源用途
- スペクトル分析・高精度計測分野
- 医療・核医学分野のトレーサー・診断用途